一:CCI HD适合用于制造和研究領域，可測量厚度至1.5微米的厚膜及厚度至50納米的薄膜塗層。

CCI HD 是一種非接觸式光學 3D 輪廓儀，具有測量薄膜和厚膜的功能。 它采用享有**的新型關聯算法，來查找由我們的精密光學掃描裝置産生的幹涉圖的相幹峰和相位。 這種新型的 CCI HD 整合了世界**的非接觸式尺寸測量功能和先進的厚薄膜測量技術。CCI HD 除了提供尺寸和粗糙度測量功能，還可以提供兩種類型的膜厚測量。 近年來厚膜分析被用于研究厚度至約 1.5 微米的半透明塗料；測量的厚度限制取決于材料的折射率和标的物的 NA。 測量較薄的塗層被證實為難度更高。現在通過幹涉測量法可以研究厚度至 50 納米（同樣取決于折射率）的薄膜塗層。 采用這種新型方法，可以在單次測量中研究膜厚、界面粗糙度、針孔缺陷以及薄塗層表面的剝離等特性。

1.2048 x 2048像素陣列，視場廣，高分辨率 2.全量程0.1埃的分辨率 3.适用于0.3% - 100%的表面反射率 4.<0.2Åstrom RMS重複性，<0.1％台階高度重複性 5.多語言版本的64位控制和分析軟件 6.2.2 mm垂直範圍，帶閉環無壓電Z軸掃描儀 7.AutoStitch作為标準配置，可高分辨率測量大型零件

二:CCI MP-HS非常适合用于研究領域，從非常粗糙的表面到非常光滑的表面，任何類型的表面它都能測量，因而具備測量各種元件的能力。

無論測量的是何種元件，無論對分析速度的要求有多高，我們創新的CCI MP-HS非接觸式光學輪廓儀都能為您提供精密的3D表面測量結果。 一百萬高速相機與1/10埃垂直分辨率相結合，無論是測量非常粗糙的表面，還是測量非常光滑的表面，都能獲得令人不可思議的詳細分析。CCI MP-HS大大地擴展了分析能力，同時又不至于讓分析程序變得更複雜。 您可以測量各種各樣的元件和表面，不需要進行複雜的測量模式切換，也不會給中間透鏡的校準增加額外的負擔。 通過标準化的方法、程序和報告，CCI MP-HS可輕松地整合到您的質量管理系統中。

1.1048 x 1048像素陣列，視場廣，高分辨率 2.高級X、Y、Z拼接，擴展量程 3.RMS重複精度<0.2 埃，階躍高度重複精度<0.1% 4.整合抗振，優化抗噪性能 5.多語言版本的Windows，64位軟件

三:CCI MP 是一種多功能的非接觸式 3D 輪廓儀，可測量抛光表面、粗糙表面、曲面、平面或台階面。

CCI MP是一種高級的測量幹涉儀（非接觸式3D輪廓儀）。 它采用享有**的新型關聯算法，來查找由我們的精密光學掃描裝置産生的幹涉圖的相幹峰和相位。CCI MP對于很多需要進行高精度3D輪廓分析的應用非常有用。 轉台上可以同步裝配各種各樣的标的物，因而可測量多種類型的表面。 自動的工作台和自動測量程序進一步增強了測量的靈活性。CCI MP非接觸式3D輪廓儀的一個關鍵優勢就是功能多、用途廣。 反射率為0.3%至100%的抛光表面、粗糙表面、曲面、平面或台階面，都能使用一種算法進行測量，不需要為不同的表面改變模式，也不用擔心會選擇錯誤的模式。 可測量的材料類型包括： 玻璃、液體墨水、光刻膠、金屬、聚合物和糊劑。

1.1048 x 1048像素陣列，視場廣，高分辨率 2.經過改良的新型X、Y、Z拼接，量程多達100毫米 3.RMS重複精度<0.2埃，階躍高度重複精度<0.1% 4.全量程埃級分辨率 5.多語言版本的Windows 7，64位軟件

四:CCI光學裝置

無論對分析速度的要求有多高，我們創新的CCI光學裝置非接觸式光學輪廓儀都能為您提供精密的3D表面測量結果。 高分辨率相機與1/10埃垂直分辨率相結合，無論是測量非常粗糙的表面，還是測量非常光滑的表面，都能獲得令人不可思議的詳細分析。CCI光學裝置與光學研究人員和科學家的專業知識保持與時俱進，能滿足光學領域的嚴苛測量要求。 CCI光學裝置将強大的尺寸及粗糙度分析軟件與工程設計融于一體，是一種非常适合用于粗糙度測量的檢驗工具。 CCI優質的薄膜厚度測量功能，進一步完善了為光學工業而設計的出色計量包裝 。

1.2048 x 2048像素陣列，視場廣，高分辨率 2.全量程0.1埃的分辨率 3.輕松測量反射率為0.3% - 100%的各種表面 4.RMS重複精度<0.2埃，階躍高度重複精度<0.1% 5.多語言版本的64位控制和分析軟件

表面的三個元素對于組件的功能至關重要。 卓越的粗糙度能力與大面積測量，先進的數據分析（2D和3D）以及泰勒·霍布森（Taylor Hobson）的專業知識相結合，可提供業界**的計量技術。 許多用戶依靠CCI MP-HS解決其他儀器完全無法處理的測量問題。憑借出色的量程、*高的分辨率以及操作簡便的優勢，成為在衆多應用場合中研發和質量保證的理想工具。
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